[아이뉴스24 민혜정 기자] 삼성전자가 지난해에 48조2천억원을 시설투자에 집행했다.
삼성전자는 지난해 시설투자는 48조2천억원이었으며 사업별로는 반도체 43조6천억원, 디스플레이 2조6천억원 수준이라고 27일 밝혔다.
메모리는 극자외선(EUV) 기반 15나노 D램, V6 낸드 등 첨단공정 수요 대응을 위한 평택·시안 증설과 공정 전환, 평택 P3 라인 인프라 투자 등을 중심으로 시설투자가 진행됐다. EUV를 포함한 차세대 기술 적용을 선제적으로 확대함에 따라 메모리 투자가 전년 대비 증가했다.
![삼성 서초사옥 [사진=아이뉴스24DB]](https://image.inews24.com/v1/0b68ac6b9b8420.jpg)
반도체 위탁생산(파운드리)은 평택 EUV 5나노 첨단공정 증설 등을 중심으로 투자가 진행됐다.
디스플레이는 중소형 모듈과 QD 디스플레이에 중점을 두고 투자했다.
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