삼성전자, 올해 시설투자 46조2천억원…전년比 2배↑

[아이뉴스24 김문기기자] 삼성전자가 지난해 대비 2배 가량의 시설투자를 단행한다.

삼성전자(대표 권오현)는 31일 3분기 실적 발표를 통해 올해 약 46조2천억원을 시설투자한다고 밝혔다.

지난해 삼성전자의 시설투자는 25조5천억원 수준이었다. 대략 2배 가량 시설투자비가 증가했다. 사업별로는 반도체 29조5천억원, 디스플레이 14조1천억원이다.


3분기 시설투자는 총 10조4천억원이다. 반도체 7조2천억원, 디스플레이 2조7천억원이 투자됐다. 3분기 누계로는 32조9천억원이다. 상반기의 경우 누계 22조5천억원을 쓴 바 있다.

메모리의 경우, V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환을 위한 투자가 진행되고 있다. 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설에 투자되고 있다. 디스플레이의 경우는 플렉서블 OLED 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 증설 투자가 진행 중이다.

4분기 투자는 상당 부분이 반도체 사업에 투자될 예정이다. 주로  신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 전망이다.